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    純銅離子接地極

    純銅離子接地由于其良好的性能,優(yōu)良的導電性能及的設計工藝,被廣泛應用于通信、電力、石化、金融、網(wǎng)絡(luò )、電子等重要場(chǎng)所的接地工程。
    產(chǎn)品詳情
    純銅離子接地極

    純銅離子接地由于其良好的性能,優(yōu)良的導電性能及的設計工藝,被廣泛應用于通信、電力、石化、金融、網(wǎng)絡(luò )、電子等重要場(chǎng)所的接地工程,尤其適合土壤條件惡劣,施工條件受到限制,技術(shù)標準要求高的接地工程。

    純銅離子接地制作工藝:

    1、離子電管:采用紫銅管材,管內壁采用新陶瓷鍍膜技術(shù)處理,具有的耐強酸、強堿性能;管外壁噴涂一層高分子導電材料,具有優(yōu)良能力和低的電阻率。管上端和下端分別設計了水分吸收孔和離子釋放孔。

    2、離子電內部離子發(fā)生裝置:填充在管內部,具有的離子釋放性能,并具備吸水 ﹑電離導電﹑ 、緩釋功能。

    3、離子電外部填充料:非金屬導電材料,環(huán)保,添加有吸水、凝固、滲透以及土壤改良成分,與管內釋放出的電解離子相互作用,可以持續周?chē)寥赖膶щ娦阅?,達到接地降阻的效果。

    純銅離子接地土壤腐蝕的電過(guò)程:

    純銅離子接地在潮濕的土壤中的陽(yáng)過(guò)程與在溶液中腐蝕時(shí)的情況類(lèi)似,陽(yáng)過(guò)程沒(méi)有明顯的阻礙。若土壤的透氣性不良且含有氯離子等腐蝕性離子,碳鋼的陽(yáng)溶解化率較低,并決定于其離子化反應的過(guò)電位。碳鋼在干燥且透氣性良好的土壤中,陽(yáng)過(guò)程因離子化困難發(fā)生很大的化。在長(cháng)時(shí)間的腐蝕過(guò)程中,由于腐蝕的次生反應所生成的不溶性腐蝕產(chǎn)物的屏蔽作用,陽(yáng)化進(jìn)一步增大。電解離子接地在土壤中腐蝕時(shí)的陰過(guò)程主要是氧的去化。在強酸性土壤中,氫的去化過(guò)程也可能參與進(jìn)行。在某些情況下,還可能發(fā)生有微生物參與的陰還原過(guò)程。

    純銅離子接地施工說(shuō)明:

    1、鉆孔

    按設計要求在預先選好的施工場(chǎng)地鉆出直徑、均大于待安裝電解離子接地100mm的安裝孔洞;

    2、配制填充劑

    用水調和填充劑、引發(fā)劑至糊狀,攪拌均勻;

    3、預灌注

    將四分之一配制好的填充劑填入孔洞底部;

    4、植入接地

    拆開(kāi)電解離子接地二端密封膠帶,將接地植入孔洞中,接地頂部與地平面平齊,將其余填充劑灌注至接地100mm處;

    5、加防護帽

    為日后維護檢測方便,電解離子接地可配套接地觀(guān)測井使用。

    注:當一套離子接地達不到地阻要求時(shí),可用二套或幾套并聯(lián)使用,離子接地與離子接地之間的間隔不宜小于5M;引出線(xiàn)采用銅包鋼絞線(xiàn)做引出線(xiàn)與離子接地體實(shí)行壓接,接點(diǎn)處理。


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